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Background: Focused electron beam induced deposition (FEBID) is a direct-writing technique with nanometer resolution, which has received strongly increasing attention within the last decade. In FEBID a precursor previously adsorbed on a substrate surface is dissociated in the focus of an electron beam. After 20 years of continuous development FEBID has reached a stage at which this technique is now particularly attractive for several areas in both, basic and applied research. The present topical review addresses selected examples that highlight this development in the areas of charge-transport regimes in nanogranular metals close to an insulator-to-metal transition, the use of these materials for strain- and magnetic-field sensing, and the prospect of extending FEBID to multicomponent systems, such as binary alloys and intermetallic compounds with cooperative ground states.
Results: After a brief introduction to the technique, recent work concerning FEBID of Pt–Si alloys and (hard-magnetic) Co–Pt intermetallic compounds on the nanometer scale is reviewed. The growth process in the presence of two precursors, whose flux is independently controlled, is analyzed within a continuum model of FEBID that employs rate equations. Predictions are made for the tunability of the composition of the Co–Pt system by simply changing the dwell time of the electron beam during the writing process. The charge-transport regimes of nanogranular metals are reviewed next with a focus on recent theoretical advancements in the field. As a case study the transport properties of Pt–C nanogranular FEBID structures are discussed. It is shown that by means of a post-growth electron-irradiation treatment the electronic intergrain-coupling strength can be continuously tuned over a wide range. This provides unique access to the transport properties of this material close to the insulator-to-metal transition. In the last part of the review, recent developments in mechanical strain-sensing and the detection of small, inhomogeneous magnetic fields by employing nanogranular FEBID structures are highlighted.
Conclusion: FEBID has now reached a state of maturity that allows a shift of the focus towards the development of new application fields, be it in basic research or applied. This is shown for selected examples in the present review. At the same time, when seen from a broader perspective, FEBID still has to live up to the original idea of providing a tool for electron-controlled chemistry on the nanometer scale. This has to be understood in the sense that, by providing a suitable environment during the FEBID process, the outcome of the electron-induced reactions can be steered in a controlled way towards yielding the desired composition of the products. The development of a FEBID-specialized surface chemistry is mostly still in its infancy. Next to application development, it is this aspect that will likely be a guiding light for the future development of the field of focused electron beam induced deposition.
Die vorliegende Arbeit beschreibt die Erzeugung und Charakterisierung verschiedenartiger piezoresistiver Dünnschichten für die Druck- und Dehnungssensorik bei hohen Temperaturen, die mittels Sputterdeposition abgeschieden werden:
- metallische Schichten aus Chrom mit Verunreinigungen aus Sauerstoff, Stickstoff oder Platin,
- granulare Keramik-Metall-Schichten (Cermets), mit Platin oder Nickel als Metallkomponente und Aluminiumoxid (Al2O3) oder Bornitrid (BN) als Keramikkomponente.
Beide Schichttypen können mit geeigneten Beschichtungsparametern erhebliche piezoresistive Effekte aufweisen, also einen Widerstands-Dehnungs-Effekt, der den von typischen Metallschichten um ein Mehrfaches übersteigt. Der Effekt wird quantifiziert durch den k-Faktor, der die relative Änderung des Widerstands R auf die relative Änderung der Länge l, d.h. die Dehnung ε=Δl/l, bezieht: k=ΔR/(R ε).
In Beschichtungsreihen werden die Schichtzusammensetzung und die Depositionsbedingungen variiert und die Auswirkungen auf den elektrischen Widerstand, dessen Temperaturkoeffizienten (TKR), sowie den k-Faktor untersucht. Die k-Faktoren der chrombasierten Schichten liegen bei 10 bis 20 mit um null einstellbarem TKR. Die Cermet-Schichten erreichen je nach Material k-Faktoren von 7 bis über 70 mit meist stark negativen TKR von mehreren -0,1 %/K.
Die Chrom- und Chrom-Stickstoff-Schichten erweisen sich als geeignete Sensorschichten für Membran-Drucksensoren. Daher wird eine Reihe von Sensoren mit Wheatstone-Messbrücken erzeugt und charakterisiert. Sie zeigen den hohen k-Faktoren entsprechende hohe Signalspannen. Die guten Sensoreigenschaften bleiben auch bei hohen Temperaturen bis 230 °C erhalten.
Nach den ersten Untersuchungen bei Dehnungen bis maximal 0,1 % wird zusätzlich das Verhalten der Schichten bei höheren Dehnungen bis 1,4 % untersucht. Es zeigt sich vorwiegend ein lineares Widerstands-Dehnungs-Verhalten. Die Leiterbahnen der spröden chrombasierten Schichten werden bei Dehnungen um 0,7 % jedoch durch Risse zerstört, die sich von den Rändern der Schicht her ausbreiten.
Die Platin-Aluminiumoxid-Schicht zeigt einen enorm großen, nichtlinearen Widerstands-Dehnungs-Effekt, der auf Risse zurückgeführt werden kann, die sich nach einigen Belastungszyklen reproduzierbar öffnen und schließen.
Tieftemperaturmessungen von 2 bis 300 K zeigen Widerstandsminima der Chrom-Stickstoff-Schichten; Magnetwiderstandsmessungen deuten jedoch nicht auf den Kondo-Effekt hin.
Die Cermet-Schichten zeigen thermisch aktivierte Leitfähigkeit.
Ausgewählte Schichten werden bei Temperaturen bis 420 °C (693 K) charakterisiert. Die chrombasierten Schichten haben bei hohen Temperaturen stabile Widerstände, zeigen jedoch stark nichtlineare Temperaturverläufe von Widerstand und k-Faktor. Oberhalb einer gewissen Temperatur verschwindet der piezoresistive Effekt, kehrt jedoch beim Abkühlen zurück. Die Verläufe lassen sich durch die Schichtzusammensetzung und auch durch Temperaturbehandlungen modifizieren.
Die Platin-Aluminiumoxid-Schicht ist ebenfalls temperaturstabil und zeigt geringe Änderungen des k-Faktors im Temperaturverlauf. Platin-Bornitrid zeigt große, reversible Widerstandsänderungen bei höheren Temperaturen, die auf mögliche Gaseinlagerungen hindeuten.
Aus den experimentellen Ergebnissen lassen sich die Ursachen der Piezoresistivität ableiten: Die chrombasierten Schichten bilden, wie in der Literatur vielfach beschrieben, unterhalb einer Ordnungstemperatur einen Spindichtewellen-Antiferromagnetismus aus. Dieser Zustand führt zu einem zusätzlichen Widerstandsbeitrag, der die beschriebenen Nichtlinearitäten der Widerstands-Temperatur-Verläufe verursacht und zudem empfindlich auf mechanische Dehnung reagiert und so zu erhöhten k-Faktoren führt.
Die Piezoresistivität der Cermet-Schichten resultiert aus der granularen Struktur, in der Ladungsträger zwischen Metallpartikeln tunneln. Mit exponentiell vom Partikelabstand abhängigen Widerständen der Tunnelübergänge resultieren hohe k-Faktoren. Mithilfe von Modellbetrachtungen, in denen Gleichungen für Tunnelwiderstände auf granulare Systeme angewendet werden, werden die experimentellen Ergebnisse diskutiert. Die Ergebnisse deuten darauf hin, dass sich die Eigenschaften der Keramik vorrangig auf den Betrag der k-Faktoren auswirken und die Eigenschaften des Metalls vor allem den TKR beeinflussen.