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Benzene solutions of Me3SnCl when exposed to moisture yield the adduct Me3SnCl·Me3SnOH·H2O. This adduct represents an intermediate in Me3SnCl hydrolysis. The structure of Me3SnCl·Me3SnOH·H2O features an array of Me3Sn units connected alternatingly by bridging Cl and OH ligands.
Pyrazolyl-substituted 1,4-dihydroxybenzene and 1,4-dihydroxynaphthene derivatives have been synthesized by reaction of 1,4-benzoquinone and 1,4-naphthoquinone, respectively, with pyrazole. Cyclovoltammetric measurements have shown that 1,4-benzoquinone possesses the potential to oxidize 2-(pyrazol-1-yl)- and 2,5-bis(pyrazol-1-yl)-1,4-dihydroxybenzene. The 2,5-bis(pyrazol-1-yl)- 1,4-dihydroxybenzene reacts with air to give quantitatively black insoluble 2,5-bis(pyrazol-1-yl)-1,4- quinhydrone. Black crystals of 2,5-bis(pyrazol-1-yl)-1,4-quinhydrone suitable for X-ray diffraction were grown from methanol at ambient temperature (monoclinic C2/c). The poor yields of pyrazolylsubstituted 1,4-dihydroxybenzene and 1,4-dihydroxynaphthene derivatives can be explained by the formation of insoluble black quinhydrons in the reaction of benzoquinone and naphthoquinone with pyrazole. The dianions of 2-(pyrazol-1-yl)- and 2,5-bis(pyrazol-1-yl)-1,4-dihydroxybenzene react with oxygen to give the corresponding semiquinone anions. 2,5-Bis(pyrazol-1-yl)-1,4-benzoquinone shows two reversible one-electron reduction processes in cyclovoltammetric measurements, whereas pyrazolyl-substituted 1,4-dihdroxybenzene and -naphthene derivatives undergo irreversibile electrontransfer processes.
Supersilylated tetrachlorodigermane (tBu3Si)Cl2GeGeCl2(SitBu3) and trigermoxetane (tBu3Si)3Ge3Cl3O
(2004)
In contrast to the tetrachlorodigermane (tBu3Si)Cl2Ge-GeCl2(SitBu3), the cis,transcyclotrigermane (tBu3SiGeCl)3 is sensitive to oxygen. Its treatment with O2 at ambient temperature leads to the trigermoxetane (tBu3Si)3Ge3Cl3O. According to an X-ray structure analysis of single crystals consisting of cocrystallized (tBu3Si)3Ge3Cl3O and (tBu3Si)Cl2Ge-GeCl2(SitBu3) the trigermaoxetane contains an almost planar Ge3O-ring while the tetrachlorodigermane (tBu3Si)Cl2Ge- GeCl2(SitBu3) possesses a Si-Ge-Ge-Si chain which is exactly all trans,
The donor-free silanimines tBu2Si=N-SiRtBu2 (R = tBu, Ph), which are prepared from tBu2ClSiN3 and NaSiRtBu2 at −78 ◦C inBu2O, decompose in benzene at room temperature with the formation of isobutene. Products of ene reactions of isobutene and tBu2Si=N-SiRtBu2 (R = tBu, Ph) are formed. X-Ray quality crystals of H2C=C(CH2SitBu2-NH-SiPhtBu2)2 (monoclinic, space group C2/c, Z = 4) were grown from a benzene solution at ambient temperature, whereas single crystals of H2C=C(CH2SitBu2-NH-SitBu3)2 (monoclinic, space group P21, Z = 2) were obtained by recrystallization from THF.
The thermolabile triazenides M[tBu3SiNNNSiMetBu2] (M = Li, Na) are accessible from the reaction of tBu2MeSiN3 with the silanides MSitBu3 (M = Li, Na) at −78 °C in THF. At r. t. N2 elimination from the triazenides M[tBu3SiNNNSiMetBu2] (M = Li, Na) takes place with the formation of M[N(SiMetBu2)(SitBu3)] (M = Li, Na). X-Ray quality crystals of Li(THF)[N(SiMetBu2)(SitBu3)] (orthorhombic, Pna21) are obtained from a benzene solution at ambient temperature. In contrast to the structures of the unsolvated silanides MSitBu3 (M = Li, Na), the THF adduct Li(THF)3SitBu3 is monomeric in the solid state (orthorhombic, Pna21).
Single crystals suitable for X-ray diffraction of (tBu2P)3Ga (monoclinic, space group Cc) were obtained from GaCl3 and two equivalents of Li[PtBu2] at room temperature in benzene. The phosphanylgallane (tBu2P)3Ga was also produced via a one-pot approach by reaction of GaCl3 with three or more than three equivalents of Li[PtBu2]. However, treatment of one equivalent of GaCl3 with one equivalent of Li[PtBu2] and subsequent protolysis yielded [tBu2PH2][tBu2P(GaCl3)2 - Li(Cl3Ga)2PtBu2]. Single crystals of this phosphonium salt (monoclinic, space group Cc) were obtained from benzene at room temperature.
Cell-free (CF) synthesis with highly productive E. coli lysates is a convenient method to produce labeled proteins for NMR studies. Despite reduced metabolic activity in CF lysates, a certain scrambling of supplied isotope labels is still notable. Most problematic are conversions of 15N labels of the amino acids L-Asp, L-Asn, L-Gln, L-Glu and L-Ala, resulting in ambiguous NMR signals as well as in label dilution. Specific inhibitor cocktails suppress most undesired conversion reactions, while limited availability and potential side effects on CF system productivity need to be considered. As alternative route to address NMR label conversion in CF systems, we describe the generation of optimized E. coli lysates with reduced amino acid scrambling activity. Our strategy is based on the proteome blueprint of standardized CF S30 lysates of the E. coli strain A19. Identified lysate enzymes with suspected amino acid scrambling activity were eliminated by engineering corresponding single and cumulative chromosomal mutations in A19. CF lysates prepared from the mutants were analyzed for their CF protein synthesis efficiency and for residual scrambling activity. The A19 derivative “Stablelabel” containing the cumulative mutations asnA, ansA/B, glnA, aspC and ilvE yielded the most useful CF S30 lysates. We demonstrate the optimized NMR spectral complexity of selectively labeled proteins CF synthesized in “Stablelabel” lysates. By taking advantage of ilvE deletion in "Stablelabel", we further exemplify a new strategy for methyl group specific labeling of membrane proteins with the proton pump proteorhodopsin.
Schichten V/Al-Intermetallischer Phasen und Schichten aus V(Al) (Schichtdicken 150- 300 nm) wurden durch Interdiffusion von V/Al- und V5Al8/V-Mehrfachschichten bei 400-800°C im Vakuum bei 3 x 10-8 mbar hergestellt. Des Weiteren wurden V5Al8-Schichten durch Sputtern einer V5Al8-Legierung erzeugt. Die Gesamtstöchiometrie der Schichten lag zwischen Al0,86V0,14 und Al0,19V0,81. Als Substrat dienten einkristalline (012) Saphirwafer. Die V/Al-Intermetallischen Phasen und V(Al) wurden im RTP-System bei 600-1250°C mit NH 3 umgesetzt. Zum Vergleich der Reaktivität wurden die V/Al- und V5Al8/V-Mehrfachschichten auch ohne vorherige Vakuumtemperung in NH3 getempert. Die Proben wurden mittels XRD, SNMS, TEM/EFTEM, ESCA, XRR und AFM untersucht. Die V/Al-Mehrfachschichten besaßen eine starke Welligkeit, die von der starken Al-Schichtdickenschwankung herrührte. Trotz dieser Welligkeit zeigten die V- und Al-Schichten der V/Al-Mehrfachschicht eine ausgeprägte Textur. Die V-Schichten waren (110) und die Al-Schichten (111) texturiert. Die Bildung von (112) texturiertem Al3V erfolgte bereits bei 400°C, die Bildung von (110) texturiertem V 5Al8 und V(Al) bei 700°C. In der Nähe der Oberfläche durchmischten sich die V- und Al-Schichten aufgrund von O- und C-Einlagerung während der Vakuumtemperung nicht vollständig, und man beobachtete die Bildung von V-Oxiden. Je größer der V-Gehalt der Intermetallischen Verbindung bzw. V(Al), desto größer war die Reaktivität gegenüber Sauerstoff. Bei der Nitridierung der durch Interdiffusion gewonnen Intermetallischen Phasen Al3V und V5Al8 beobachtete man die Bildung von (001) texturiertem AlN an der Oberfläche. Durch die Nitridierung verarmte die Intermetallische Phase an Aluminium und es bildeten sich die V-reicheren Intermetallischen Verbindungen. Weitere Nitridierung führte zur Bildung von (001) texturiertem V2N. Bei der Nitridierung von V0,81(Al)0,19 bildete sich zunächst V(Al)(N), das bei weiterer Nitridierung zunächst in V2N und schließlich in VN und AlN überging. Das Reaktionsverhalten der Intermetallischen Phasen und der V(Al)-Phase stimmte weitestgehend mit dem von Yong Du et al. berechneten ternären Al/V/N-Phasendiagramm überein. Bei der Nitridierung von V0,61(Al)0,39 beobachtete man jedoch ebenfalls die Bildung von V2N. Dies widerspricht dem berechneten V/Al/N-Phasendiagramm, nachdem sich bei dieser Zusammensetzung auch AlN bilden sollte. Möglicherweise ist das Zweiphasengebiet V(Al)(N) + V2N breiter. Die Intermetallischen Phasen Al3V und V5Al8 zeigten im Vergleich zu reinem Vanadium eine stark verminderte Reaktivität gegenüber NH3. Dies ist auf die Passivierung der Oberfläche durch die AlN-Bildung zurückzuführen. Die ebenfalls schwächere Reaktivität der V(Al)-Phase lässt sich mit der geringen Löslichkeit an Stickstoff in V(Al) und der sehr wahrscheinlich höheren Aktivierungsenergie für die V2N-Bildung erklären. Die Reaktivität der V/Al-Mehrfachschichten war deutlich größer als die der Intermetallischen Phasen. Hierfür ist mit Sicherheit der höhere Anteil an Korngrenzendiffusion verantwortlich. Zum anderen könnte Vanadium die AlN-Bildung katalysieren. Bei der direkten Nitridierung wurde die oberste V-Schicht zu einer VN-Schicht umgesetzt. Die Nitridierung ist also nahe der Oberfläche schneller als die Interdiffusion der Metalle. In Richtung der Oberfläche beobachtete man eine stark ansteigende Al-Konzentration, wofür die im Vergleich zu VN höhere Freie Enthalpie von AlN verantwortlich ist. Durch das Sputtern einer V5Al8-Legierung konnte das Problem der Oxidbildung bei der Interdiffusion umgangen werden. Eine dünne Aluminiumoxidschicht bildete sich jedoch bereits schon bei der Lagerung an Luft. Die Reaktivität der gesputterten V5Al8-Schichten unterschied sich nicht wesentlich von der interdiffundierter V/Al-Mehrfachschichten vergleichbarer Stöchiometrie. Tiefenprofilanalysen an nitridierten V5Al8-Schichten machten deutlich, dass zwischen 600 und 900°C eine bemerkenswerte Menge an Sauerstoff in die AlN-Schicht eingebaut wurde. Ab 900°C stieg die Dicke der Aluminiumoxinitridschicht stark an. Eine weitere Temperaturerhöhung auf 1250°C führte zu keiner sign ifikanten Zunahme der AlN-Schichtdicke, jedoch zu einer starken Reduktion des O-Gehalts im AlN. Gleichzeitig beobachtete man bei 1250°C eine partielle Ablösung der AlN-Schicht.
The layer‐by‐layer (LbL) method is a well‐established method for the growth of surface‐attached metal–organic frameworks (SURMOFs). Various experimental parameters, such as surface functionalization or temperature, have been identified as essential in the past. In this study, inspired by these recent insights regarding the LbL SURMOF growth mechanism, the impact of reactant solutions concentration on LbL growth of the Cu2(F4bdc)2(dabco) SURMOF (F4bdc2−=tetrafluorobenzene‐1,4‐dicarboxylate and dabco=1,4‐diazabicyclo‐[2.2.2]octane) in situ by using quartz‐crystal microbalance and ex situ with a combination of spectroscopic, diffraction and microscopy techniques was investigated. It was found that number, size, and morphology of MOF crystallites are strongly influenced by the reagent concentration. By adjusting the interplay of nucleation and growth, we were able to produce densely packed, yet thin films, which are highly desired for a variety of SURMOF applications.