Refine
Document Type
- Article (7)
- Part of a Book (1)
- Doctoral Thesis (1)
Language
- German (9)
Has Fulltext
- yes (9)
Keywords
- Oberfläche (9) (remove)
Institute
- Extern (8)
- Biochemie und Chemie (1)
"Nur die oberflächlichen Eigenschaften dauern", so Oskar Wilde in seinen 'Sätzen und Lehren zum Gebrauch der Jugend': "Des Menschen tieferes Wesen ist bald entlarvt". Ausgehend von der These, dass der Poetik Jelineks ein "Lob der Oberfläche" eingeschrieben ist, möchte ich im folgenden die Rolle der Mode beleuchten, und zwar nicht nur als Oberflächenphänomen, sondern auch als Übergangsphänomen, das an der Schwelle zwischen Oberfläche und Tiefe in Erscheinung tritt.
Unendlichkeit
(2001)
Es ist der Begriff der Kraft, durch den die Begriffe Oberfläche und Unendlichkeit eine erste gemeinsame Dimension gewinnen. Folgt man der Dialektik der Kraft in Hegels "Phänomenologie des Geistes", so ist jede Kraft mehr als ihre Äußerung, da jede Kraft ein innerer Überschuß über die zur Ursache gehörenden Wirkung ist. […] Vom Glauben an die Gegebenheit und Abgeschlossenheit von Dingen und Personen, von der Beruhigung an Form und Fassade des Gegenständlichen bleibt nichts mehr übrig, sobald deren Oberfläche als Schauseite der sie bevölkernden Kräfte erkannt wird. Weil die dingkonstitiuerenden und räumlichen Momente, obzwar in der Anschauung untrennbar, dennoch nicht identisch sind, dringt in das Verhältnis des Körpers zu seiner Grenze etwas zweifach Unbegrenztes ein, das sämtliche Eigenschaften (Oberflächenbeschaffenheit, Härtegrad, Gewicht, Farbe, Klanglichkeit) in seine permanente Veränderlichkeit hineinzieht. Einmal, insofern die Grenze die äußere Umschlagszone bildet, an der sich alle möglichen Austauschprozesse des Körpers mit seiner Umgebung vollziehen, zum zweiten als infiniter, indefiniter Zustand des Körpers selbst, was seiner Präsenz den Charakter bloßer Vorhandenheit nimmt und ihm seine Unendlichkeit zurückgibt. [...] Die nachfolgenden Ausführungen zum Begriff der Unendlichkeit summieren sich nicht. Als geregelte Variationen, als freie Fügungen einer ausgegliederten Mitte unterstehen sie keiner Einheit, die ihre Zusammenfassung bereits vorgängig leitet, so wenig wie sie Resultate zu bieten haben. Nur eine Spielregel: Um den ‚Grand ouvert‘ der Oberfläche zu gewinnen, ist der höchste Trumpf schnell aus der Hand zu geben.
Der folgende Text wählt sich ein Motto, das er methodisch nicht zu erfüllen scheint: Er sieht es ganz offensichtlich auf die Oberfläche ab; er versucht ihre Beschreibung. Doch indem er sich (im)materiell beschriebenen Oberflächen widmet, kehrt er – sich über seinen Gegenstand entfernend – wieder zur Maxime zurück. Im Nachvollzug dessen, was passiert, wenn Oberflächen be-schrieben werden und graphische Qualität gewinnen, will der Text auf die […] Phänomene des Nicht-Hinsehens, des Kommen-Lassens aufmerksam machen, bei denen man von Absichtslosigkeit sprechen könnte. Angesprochen sind damit Fragen sowohl nach dem Status von Oberflächen als nachgiebigem Untergrund, osmotischer Grenz- und stabiler Trägerfläche oder aber beschichtender Auflage als auch nach der Materialität und Dimensionalität der Schrift und ihrer Fläche. Mit beschriebenen Oberflächen sind sowohl solche des Schriftauftrags gemeint als auch – und diese sind hier besonders relevant – Schriftflächen, die ihre Literalität aus sich selbst heraus zu generieren scheinen. Der Begriff »Schriftflächen« fokussiert eine Überschneidung – das Flächigwerden der Schrift in der Verschriftlichung der Oberfläche, das Hervorbringen der Fläche aus der Schrift und der Schrift aus der Fläche. Während die materielle Spezifik des »Grundes« die Gestalt der Graphie wesentlich beeinflußt und sie sogar hervorbringt, konstituiert Schrift in ihrem jeweiligen Auftrag erst die Schriftfläche als Oberfläche, und zwar über ihre Funktion als graphematischer Bewegungsträger.
Analytik von Kontaminationen auf Siliciumoberflächen : Möglichkeiten und Grenzen des VPD-Verfahrens
(2004)
In der Halbleiterindustrie führen in der Massenproduktion von Mikroelektronik-Bauelementen bereits geringfügige Mengen an metallischen Verunreinigungen zu einer erheblichen Verminderung der Ausbeuten und setzen die Zuverlässigkeit der Bauelemente drastisch herab. Deshalb müssen nicht nur die als Ausgangsmaterial verwendeten Siliciumscheiben bezüglich des Kontaminationsgrades durch Fremdatome höchsten Ansprüchen genügen, sondern auch die einzelnen Fertigungsschritte für die Produktion von elektronischen Bauelementen. Für die Detektion der Oberflächenverunreinigungen kommt in der Halbleiterindustrie die Totalreflexions-Röntgenfluoreszenz-Spektrometrie (TXRF) mit einer Empfindlichkeit von 1010 Atomen/cm2 zum Einsatz. Mittlerweile liegen die Anforderungen deutlich unterhalb dieser Nachweisgrenze. Durch Anwendung des Aufkonzentrierungsverfahrens VPD (Vapour-Phase-Decomposition) in Kombination mit etablierten Analysemethoden wie TXRF oder GF-AAS (Graphitrohr-Atom- Absorptions-Spektrometrie) können die in der Halbleiterindustrie notwendigen Nachweisgrenzen zur Detektion der Metalloberflächenbelegungen erreicht werden. VPD ist ein Verfahren, das thermische, chemische oder native Oxide auf Siliciumscheiben durch HFDampf ätzt. Metallische Verunreinigungen, die sich auf oder in der Oxidschicht befinden, können anschließend durch Abscannen der hydrophoben Oberfläche mit einem Tropfen eingesammelt werden. Zwei wichtige Begriffe, die unmittelbar im Zusammenhang mit dem VPD-Verfahren stehen, sind die Einsammelrate (Collecting Efficiency CE) und die Wiederfindungsrate (Recovery Rate RR) des Analyten. Die vorliegende Arbeit beschäftigt sich mit der Bestimmung der beiden Größen am Beispiel des Mangans und des Eisens. Dabei spielt die Frage nach der Zuverlässigkeit und Reproduzierbarkeit der verwendeten Analysemethode eine wichtige Rolle. Inwiefern beeinträchtigt das Silicium, das aus der SiO2-Schicht in Lösung geht und nach einem Trocknungsprozess im Rückstand verbleibt, die mittels TXRF erhaltenen Wiederfindungsraten des Analyten. Da die Antworten auf diese Fragen nur in Verbindung mit anderen Analyseverfahren gefunden werden konnten, kamen neben TXRF, GF-AAS und Photometrie auch radiochemische Methoden zum Einsatz. Im Rahmen der vorliegenden Arbeit wurde zunächst das Adsorptionsverhalten des Mangans auf der Silicium (100)-Oberfläche in verdünnter ammoniakalischer Wasserstoffperoxid- Lösung (SC1) untersucht. Zwischen der Mangan-Konzentration in der SC1-Lösung und der Oberflächenbelegung auf den Siliciumscheiben besteht ein deutlicher Zusammenhang. Mit zunehmender Konzentration in der Lösung steigen die mit TXRF ermittelten Oberflächenbelegungen an. Eine Sättigung der Manganbelegung war im untersuchten Konzentrationsbereich nicht nachweisbar. XPS-Spektren zufolge handelt es sich bei der adsorbierten Mn-Spezies um Mn(III)- und/oder Mn(IV)-Oxide. Winkelabhängige TXRF-Untersuchungen dokumentieren die Filmeigenschaften der Mn- Kontaminationen der aus SC1-Lösungen präparierten Siliciumscheiben. Erst ab hohen Mangankonzentrationen von 15 ppmw im SC1-Bad sinkt der Filmanteil der Adsorption auf 42 %. Auch die aus wässrigen sauren Mn-Lösungen kontaminierten Proben zeigen überwiegend einen filmartigen Charakter der Metalladsorption. VPD-TXRF Analysen wurden zunächst mit SC1 behandelten Siliciumscheiben durchgeführt, deren Mn-Oberflächenbelegungen im Bereich von 1 10 x 1012 Atomen/cm2 lagen. Die ermittelten Mn-TRR-Werte (TRR (totale Wiederfindungsrate) = CE X RR) zeigten deutliche Differenzen zum Maximalwert von 1 und dehnten sich über einen Bereich von 0,55 0,68 aus. Durch den Vergleich mit AAS und TXRF (Gerät EXTRA IIA) konnten die Ursachen für die Minderbefunde der TRR-Werte u.a. auf die direkten TXRF-Messungen (Gerät 8010) zurückgeführt werden, welche die Mn-Ausgangsbelegungen um etwa 20 % überbewerten. Wie sich herausstellte, führt die Quantifizierung von filmartigen Oberflächenbelegungen mit Hilfe eines externen Partikelstandards zu einer Überbewertung der Kontamination. Diese Feststellung wird durch den Vergleich zwischen TXRF 8010 und radiochemischen Messmethoden untermauert. Generell kann es bei der Quantifizierung der Oberflächenbelegungen mittels TXRF 8010 zu Fehlinterpretationen kommen, wenn der Analyt und der Standard ein unterschiedliches Fluoreszenzverhalten in Abhängigkeit des Einfallswinkels aufweisen. Es kommt dadurch zu einer Unterbewertung von partikelartigen Mangan- und Eisenkontaminationen, die nach eigenen Einschätzungen 10 % betragen kann. Weiterhin dokumentieren die Mn-TRR-Werte deutlich die Unterschiede zwischen externer und interner TXRF-8010 Kalibrierung. Die Differenzen der TRR-Werte von durchschnittlich 0,35 ergeben sich aus der verminderten Fluoreszenzstrahlung des internen Standards Rubidium. Die aus den TXRF-Spektren entnommenen Netto-counts des Rubidiums liegen deutlich unterhalb des Erwartungswertes der 1 ng entsprechenden Menge. Die TRR-Werte des Mangans von TXRF (Gerät EXTRA IIA) und AAS liefern vergleichbare und vor allem reproduzierbare Ergebnisse. Die Übereinstimmung der Ergebnisse zeigt deutlich, dass die beiden Analysemethoden als Vergleichsmethoden zu TXRF 8010 geeignet sind. Die Zuverlässigkeit der beiden Methoden dokumentiert sich auch in den übereinstimmenden Ergebnissen der Mn- und Fe-Wiederfindungsraten. Für diesen Vergleich wurden unterschiedlich konzentrierte Mn- und Fe-Lösungen in verschiedenen Matrices angesetzt. Die im Vergleich zu AAS und TXRF EXTRA IIA niedrigeren Wiederfindungsraten von TXRF 8010 sind u.a. auf die Kalibrierung mit dem 1 ng Ni-Standard zurückzuführen. Weiterhin konnte festgestellt werden, dass die TXRF-Messungen der in Siliciummatrix vorliegenden Mn- und Eisenproben noch deutlichere Minderbefunde aufweisen. Die Ursachen dafür sind Streueffekte, die durch die Siliciummatrix im Rückstand hervorgerufen werden (s.u.). Wie aus den radioaktiven Tracer-Experimenten hervorgeht, kann der überwiegende Teil der Gesamtkontamination des Mangans und des Eisens auf der Siliciumscheibe durch den ersten Abrollvorgang eingesammelt werden. Anhand der Mangan- und Eisenmengen, die im ersten DSE-Tropfen mittels ³-Messung detektiert werden, errechnen sich die durchschnittlichen Collecting Efficiencies von Mangan und Eisen zu 96,5 bzw. 98,5 %. Die Einsammelraten sind in dem untersuchten Konzentrationsbereich unabhängig von der Ausgangsbelegung. Collecting Efficiencies können auch ohne Kenntnis der Ausgangsbelegung bestimmt werden, wenn die Gesamtmenge der Kontamination durch die Analyse der VPD-Rückstände und der Restbelegung auf der Siliciumscheibe ermittelt wird. Die Bestimmung der Collecting Efficiency nach dieser Methode ist sinnvoll, da eine fehlerhafte Analyse der Ausgangsbelegung - wie am Beispiel der direkten TXRF-Messung gezeigt - zu verfälschten Resultaten führt. Die Anwendbarkeit beschränkt sich jedoch nur auf nichtflüchtige Analyten. Im Vergleich zur ³-Analyse zeigen die Mn-Wiederfindungsraten von TXRF 8010 deutliche Minderbefunde. Auch in diesem Beispiel liegen die Ursachen für die Unstimmigkeiten u.a. in der Kalibrierung durch den 1 ng Ni-Standard begründet. Beim Eisen deutet sich ein konzentrationsabhängiger Trend an. Die höchsten Fe-Wiederfindungsraten erhält man von den Proben mit den niedrigsten Ausgangsbelegungen. Ein Erklärungsansatz beruht auf der Annahme, dass hohe Konzentrationen an Kationen (>1015 Fe-Atome pro Siliciumscheibe) die Verflüchtigung des Siliciums als SiF4 verstärkt unterbinden und somit zu einer massiven Siliciummatrix im VPD-Rückstand führen. Daraus resultieren Streueffekte durch die Matrix, die ein vermindertes Fluoreszenzsignal des Analyten zur Folge haben. VPD-Experimente an SC1-gereinigten Siliciumscheiben belegen, dass der eingetrocknete Rückstand im Wesentlichen aus Silicium besteht. Die Summe der Metallverunreinigungen der SC1- gereinigten Proben liegt deutlich unterhalb 1015 Atomen pro Siliciumscheibe. Wie am Beispiel des Mangans und des Eisens gezeigt werden konnte, liegt die Zuverlässigkeit des VPD-Verfahrens in den hohen und vor allem reproduzierbaren Einsammelraten. Die festgestellten Differenzen der TRR-Ergebnisse sind ausschließlich auf die unterschiedlichen Wiederfindungsraten der eingesetzten Analysemethoden zurückzuführen. Radiochemische Messmethoden wurden bis auf wenige Ausnahmen für derartige Untersuchungen noch nicht angewendet. Die übereinstimmenden Ergebnisse mit den etablierten Analysemethoden und die hohe Empfindlichkeit der ²- und ³-Analyse zeigen ihr Potenzial als Ergänzungsmethode auf diesem Anwendungsgebiet. Die chemischen Wechselwirkungen zwischen Flusssäure und der SiO2-Schicht während des Ätzprozesses im VPD-Reaktor sind abhängig von der relativen Luftfeuchtigkeit. Anhand der Siliciummengen, die nach dem Ätzprozess mit Hilfe unterschiedlicher DSE-Lösungen eingesammelt wurden, konnten viele neue Informationen erarbeitet werden. Das entwickelte qualitative Modell beschreibt in Abhängigkeit von der relativen Luftfeuchtigkeit, in welcher Phase (fest/flüssig/gasförmig) das aus der SiO2-Schicht geätzte Silicium vorliegt.
Die Sprache ist so hybrid wie ihr Gegenstand, springt vom konventionell Musikalisch- Akustischen (tunes und scores, Glocken und Synthesizer, Dröhnen und Sägen) zum Name-Dropping und zum Ding und Körper als Klangbild. Alles kommt zupass, wenn es irgend hilft, einen Weg um die alte Idee von der Unsagbarkeit der Musik herum zu finden (auch wenn die Umwegigkeit sie indirekt bestätigt). Das flinke al fresco, mit dem Filmmusik […] beschrieben wird, mag zumindest auch im publizistischen Ort der Texte begründet sein, von denen sich keiner an ein musikalisches Fachpublikum (in einem engeren und traditionellen Sinne) wendet. Und allgemeiner und deutlicher noch verweist es auf die Unsicherheiten und Krücken, mit denen sich – jenseits der spröden professionellen Terminologien – fast alles Sprechen über Musik abmüht. Gerade im Fall des Spaghetti-Westerns aber, und nirgends so sehr wie bei Sergio Leone/Ennio Morricone, ließe sich auch andersherum argumentieren: Dass die Oberflächig-, wenn nicht Oberflächlichkeit, die Orientierung der Beschreibungen von Musik am Effekt, vor allem am Effekt ihrer klanglichen ›Außenseite‹ (wie problematisch die Ortszuweisung auch ist), nicht nur einen blinden Fleck unseres konzeptuellen und sprachlichen Zugriffs auf Musik markiert, sondern einen Aspekt der Sache spiegelt. Was das heißt, sei am Beispiel von C’era una volta il West (1968) entwickelt.
In der Definition einer spezifisch Islamischen Kunst wird das Ornament als wesentliches Charakteristikum dieser Kunst hervorgehoben. […] Es wird behauptet, die Ornamentierung in der Islamischen Kunst geschehe ohne Sinn für eine hierarchische Gliederung der Oberfläche eines Gegenstandes. Immer wieder erklingt der Vorwurf, auf diese Weise verschleiere das islamische Ornament den dreidimensionalen Körper […]. Seit dem 15. Jahrhundert gilt das Ornament in der westlichen Kunstphilosophie als akzidentelle Verschönerung der substantiellen Schönheit, gewissermaßen als verführerische Verschleierung des wahren Guten. […] Man ging (geht) von der Annahme aus, das Ornament könne nicht Träger einer tieferen Bedeutungsebene sein. […] Eine solche Interpretation führt dazu, dass man die Islamische Ornamentkunst als bedeutungslosen Flächendekor einschätzen kann. Sicherlich sind im Einzelfall Kunstwerke anders beschrieben und bewertet worden. Es ist jedoch erstaunlich, wie weit die […] skizzierten Ideen nicht nur bei interessierten Laien verbreitet sind. […] Ich halte es für möglich, dass die Beschreibung der Islamischen Kunst als Ornamentkunst auf ungenauer Beobachtung beruht, mindestens die Beschreibung des Ornaments als zweidimensionalem, flächenfüllendem, hierarchielosem, formnegierendem Dekor. […] In meinen Beschreibungen geht es darum, verschiedene Tiefen in der Kunst zu erblicken, die bislang als oberflächliches Ornament beschrieben wurde. Als Beispiele habe ich Objekte aus dem Bestand der Sammlung Islamischer Kunst des Pergamonmuseums zu Berlin ausgewählt, unter Hinzuziehung einiger Architekturbeispiele, die von unterschiedlichen Orten und aus unterschiedlichen Zeiten stammen. So habe ich herrscherliche Auftragsarbeiten neben alltäglicheren Werken ausgewählt und profane Gegenstände neben solchen, die für eine spezielle religiöse Funktion geschaffen wurden. Dies soll eine dem Umfang dieses Beitrages gemäße Repräsentation all jener Kunstobjekte sein, die bislang unter dem Begriff Islamische Kunst zusammengefasst werden.
Gemeinsamer Bezugspunkt aller wissenschaftlichen Bemühungen ist die Lebenswelt. Infolge ihrer Eigendynamik, die auf der Beantwortung selbstgestellter Fragen beruht, entfernt sich eine Fachdisziplin jedoch gewöhnlich immer weiter von diesem Zentrum, mit dem Ergebnis, dass das gegenseitige Interesse schwindet. Daraus erwächst u. a. ein Problem für die interdisziplinäre Verständigung, die zum einen schwieriger wird, weil sie auf lebensweltliche Begriffe angewiesen ist, die aber nicht mehr mit den Fachbegriffen korrelieren; die zum anderen aber auch unnötig erscheint, weil das verbindende Element zwischen den Disziplinen nur der beiderseitige lebensweltliche Bezug sein kann. Wie sollen sich die in subtilen, aber oft wenig scharfen Begriffen gefangenen Diskurse in den Geisteswissenschaften mit den stark technisch vermittelten Forschungen in den experimentellen Naturwissenschaften begegnen, deren Ergebnisse sich nicht mehr von den Geräten, mit denen sie gewonnen wurden, trennen lassen? Die Techniken von Diskurs und Messung verstellen hier eben auch die Kommunikation. Die physikalische Chemie der Oberflächen ist stark mit diesem Problem behaftet, weil sie kaum an Alltagserfahrung anschließt. Der folgende Text versucht ein verbales Entgegenkommen, ohne den apparativen Kontext zu verleugnen.
Oberfläche. Projektvorstellung: AES [Lev Evzoviè, Evgenij Svjackij] – Körperoberfläche; Dimitrij Gutov – Tabula Rasa; Die Textur der Hautoberfläche – Der Abstand zum Sichtbaren; Die Oberfläche als weiße Leinwand. – Die Lüge des Künstlers; Valerij Podoroga: Kommentar ( Januar–Februar 1996); Oberfläche. Abschließende Diskussion – Vorbei reden.
Seine Ansätze zu einer Ästhetik der Oberfläche entwickelte Semper – gleichzeitig wie Marx seine Theorie des Fetischcharakters der Ware – angesichts der unabsehbaren Auslagen der Kunstindustrie, in denen sich das fortschrittsgläubige Bürgertum des technischen Zeitalters auf den nationalen und internationalen Gewerbeausstellungen feierte und aus denen es seine vitalsten Energien schöpfte. Semper verfasste seine epochemachende Schrift „Wissenschaft, Industrie und Kunst“ als Reaktion auf die Londoner Weltausstellung von 1851, wo Joseph Paxtons berühmter Crystal Palace der neuen Warenherrlichkeit nicht nur reichlich Raum zur Ausbreitung bot, sondern die neuen Materialien Eisen und Glas auch gleich selbst eindrücklich zur Schau stellte. Die Schrift nimmt frühere Überlegungen zur Bemalung antiker Tempel und Statuen auf und mündet später in Sempers Hauptwerk „Der Stil in den technischen und tektonischen Künsten“ (1860–1863). Das Prinzip, unter das Semper seine »praktische Ästhetik« (so lautet der Untertitel des Werks) stellt, ist jenes der Bekleidung. Damit wären wir bei der im Titel angekündigten Mode angelangt. Am Leitfaden der Mode möchte ich im Folgenden die Anfänge einer modernen Ästhetik der Oberfläche bei Semper exemplarisch für die deutschsprachige Kunsttheorie verfolgen. […] Ihre Produktivität ist nicht nur in der von industriell-technischen Entwicklungen inspirierten ›praktischen‹ Ästhetik zu beobachten, für die Semper ein Beispiel ist. Sie schlägt sich ebenso in der von den schönen Künsten und der Kunstphilosophie herkommenden ›idealistischen‹ Ästhetik nieder, wie sie etwa Friedrich Theodor Vischer (1807–1887) vertritt. Hier scheint die Mode ihre für die Reflexion über Kunst innovative Funktion gerade ihrer Randständigkeit, ihrem provokativen Außenseitertum im Verhältnis zum ästhetischen Kanon zu verdanken. Dieser Umstand verbindet sie mit der Karikatur und dem Hässlichen.